Tsinghua University是否开发了EUV光陶士？但是，没有

最近，一些媒体报道说，Jinghua大学化学系的Xu Huaping教授的团队在EUV Photorsist中取得了重要的发展，并开发了一种基于Polytelluroxane的新材料光腾师。该光构天材料的性质比现有的EUV光抗蛋白抗菌剂更好。结果已经在当前的主要期刊上发表，这种材料和技术为中国形成EUV光抗物抗议者提供了可行的途径，这意味着中国可以在其自身的EUV Photoresist中发展。您应该知道，世界上几乎所有的EUV光电天都掌握在日本公司手中，不仅是EUV光刻机器，而且还掌握在Advanced ARF Photorsist手中。中国可以开发的光刻机器主要是KRF Photorsist和一些不太先进的ARF。从PIN事实的角度来看，它们仍处于40nm-65nm阶段。 euv光腾天用于从40nm到底部7nm等7nm及以下的过程中，因此确实取得了重大成功和应有的混乱。但是，当我们感到兴奋时，我们也应该考虑一下。也就是说，EUV Photorsist与EUV光刻机一起使用，用于使芯片低于7nm。如果没有EUV光刻机器，EUV光电师除了将其出售给其他人外，对我们来说不是很有用。扩展全文 在筹码的制造和制造中，需要道路设备和材料。需要这些设备和材料，并且不可替代。 euv光腾及其只是一种材料，而euv光刻机是一种设备，需要。 目前，只有ASML能够在Mundo制造EUV光刻机器，并且不允许在中国出售ASML的EUV光刻引擎。因此，如果我们想拥有自己的EUV光刻机器，我们必须执行自我发展。 但是，EUV光刻机器的研发非常困难。来自轻量级资源对于镜头系统的目的，CES非常困难。有些人认为，即使比研究和开发原子弹更困难。 ASML当前的EUV光刻机器在全球拥有成千上万的供应商，其中许多都是这些供应商，并签署了独家ASML协议。因此，如果我们想构建一台EUV光刻机器，我们需要重建如此大的供应链系统。 因此，这实际上是“革命远非成功，而同志仍然必须努力。”目前，国内的EUV光电师实际上是在理论实验室中，而EUV光刻机器可能更远。每个人都需要继续努力。当将解决EUV光刻机器和EUV光电师时，我们真的不害怕成为